Войти на сайт

или
Регистрация

Навигация


Скачать работу на тему: Получение технического кремния в электропечах

Раздел: Промышленность, производство
Количество знаков с пробелами: 11326
Количество таблиц: 15
Тип файла: документ Word (.docx)
Размер файла: 74.89 КБ
Вся база рефератов, курсовых, дипломных работ и прочих учебных материалов предоставляется бесплатно. Используя материалы сайта Вы подтверждаете, что ознакомились с пользовательским соглашением и согласны со всеми его пунктами в полной мере.

Похожие работы

Скачать
35067
1
3

... для которого служит специально получаемый высокомарганцевый низкофосфористый шлак) применяется в производстве металлического марганца. Силикохром Силикохром, ферросиликохром, ферросплав, основные компоненты которого — кремний и хром; выплавляется в рудно-термической печи углевосстановительным процессом из кварцита и гранулированного передельного феррохрома или хромовой руды. С. с 10—46% Si ( ...

Скачать
106983
0
0

... (неочищенный газ при температуре, около 800oC) CO - в CO2 - 0,50 H2 - в H2O - 0,54 д) электроэнергия - 230 кВт·ч/т3 Формула изобретения: 1. Установка для получения расплавов железа, в частности расплавов стали, таких, как расплавы нерафинированной стали, включающая емкость электродуговой печи с боковыми стенками, крышкой и дном, внутри которой помещаются электроды, емкость для переплава, ...

Скачать
22515
0
0

... деталей. Что же дальше?   Хром и в будущем сохранит свое значение как легирующая добавка к стали и как материал для металлопокрытий; не утратят ценности и соединения хрома, используемые в химической и огнеупорной промышленности. Гораздо сложнее обстоит дело со сплавами на основе хрома. Большая хрупкость и исключительная сложность механической обработки пока не позволяют широко применять эти ...

Скачать
43550
5
6

... Процесс нанесения этих соединительных полосок называют металлизацией, а сам «рисунок» межсоединений — металлической разводкой. В данной курсовой работе рассмотрена технология изготовления плат полупроводниковых интегральных микросхем. Полупроводниковая интегральная микросхема – это микросхема, элементы которой выполнены в приповерхностном слое полупроводниковой подложки. Эти ИС составляют основу ...

0 комментариев


Наверх